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電子級(jí)超純水系統(tǒng)概述
當(dāng)今半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)超純水為四個(gè)等級(jí),分別為EW-I級(jí)≥18MΩ·cm,全硅≤2ug/L、EW-II級(jí)≥15MΩ·cm,全硅≤10ug/L,EW-III級(jí)≥12MΩ·cm,全硅≤50ug/L、EW級(jí)≥0.5MΩ·cm,全硅≤100ug/L 以區(qū)分不同的電子級(jí)超純水水質(zhì)。其中對(duì)于超純水關(guān)鍵的指標(biāo)如:電導(dǎo)率(電阻率)、總硅、PH值、顆粒度、微生物等均由不同的要求。因此線路板、電路板使用純水、超純水因?yàn)楸旧砉に嚵鞒痰牟煌瑢?duì)超純水制造的工藝也不同。
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線 器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)
2、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線 器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)
3、預(yù)處理系統(tǒng)→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線 器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)
4、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線 器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線 器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)
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